Google Summer of Code 2017，合作机构名单公布
传英特尔将推出消费级 12 核 24 线程 CPU
用 GAN 来提升光学天文望远镜观测极限
IBM 公布 7nm 制程最新技术成果
每日推荐阅读：如何让机器像人一样看世界？
Google Summer of Code (GSoC) 是谷歌与开源社区各大机构合作，举办的一年一度大学生实习/实践项目。参与者将在指导机构的导师帮助下，参与项目研发。
昨日，谷歌公布了 2017 届 Summer of Code 的指导机构名单。名单上共有 201 家开源组织，其中有大名鼎鼎的 Tor，Mozilla，Python Software Foundation，R for Statistical Computing，The Linux Foundation，The Wine Project，Wikimedia Foundation 等等。名单太长，就不一一列举了。
这些机构将负责对 GSoC 2017 实习生的指导。
GSoC 2017 将在 3 月 20 日开放报名，参与者将能够选择自己中意的指导机构。雷锋网了解到，原则上，只要是在校大学生、年满十八岁都可以报名。
名单列表地址：https://summerofcode.withgoogle.com/organizations/
GSoC 2017 官网：https://developers.google.com/open-source/gsoc/timeline
在硬件方面，AMD Ryzen 的发布毫无疑问是这段时间的头条新闻。
虽然 Ryzen 评测还未出，但业内媒体和专业人士均预计：英特尔 Z270 平台的主流产品线凭借较高的 IPC，在家用、游戏 PC 领域所受冲击将较为有限；但 X99 平台的 Broadwell-E 产品线将受到巨大打击——面对性能相似、价格只有其不到一半的 Ryzen，Broadwell-E 对专业领域消费者而言实已经没有任何购买价值。一些国外自媒体人（Redgaming Tech 等）甚至用 “annihilated”、“demolished”（被灭掉、摧枯拉朽）等字眼来形容 Broadwell-E。
近日，意大利 PC 新闻网站 bitsandchips.it 披露，英特尔正考虑将 12 核 24 线程的 CPU 在消费级市场商业化，作为 Skylake-X Extreme 产品推出。
蓝厂是打算维持 1000+ 美元的 i7 Extreme 产品线？如果这样——AMD，看你的了，把 16 核 Naples 也弄到消费级市场把。
不过，对普通人来说如此多核心并没有什么意义。看到该消息最激动的大概是数据、AI 工程师或者视频内容制作者——花更少价钱就能买到 12 核 Xeon。
雷锋网提醒，该消息尚未得到英特尔或任何其他媒体证实。
详情：http://www.bitsandchips.it/
玩摄影的都知道，镜头光圈大小是限制图像清晰度的一大因素——镜头越大，捕捉到的光线越多。
这对天文望远镜同样成立。而光学天文观测，是一个没有止境的领域——永远有更远、更暗淡、更模糊的天体等待被发现。
近日，苏黎世联邦理工学院（ETH Zurich）的学者，利用 GAN （生成对抗网络）技术生成了迄今为止最清晰的光学天文学图像，使原始图像中模糊的恒星诞生区域以及尘埃带变得可观测。
对该项研究的意义，ETH Zurich 教授 Kevin Schawinski 表示：
“现在，我们可以着手处理很多年前的天文望远镜的观测图像，使它们显露出更多的细节。这项技术可被应用于哈勃望远镜的最深层宇宙图像，以及詹姆斯·韦伯太空望远镜，帮助我们对宇宙最早期的结构做更深层次的了解。”
详情：http://www.kurzweilai.net/neural-networks-promise-sharpest-ever-images
雷锋网消息在本周的 SPIE 大会（ International Society for Optics and Photonics Advanced Lithography conference），IBM 发表了七篇研究论文，全都关于 7nm 芯片制程上的最新技术创新成果。其中，Extreme Ultraviolet (EUV，超紫外) 光刻技术是核心课题。
IBM 表示，7nm 制程技术发展到成熟量产阶段的速度，将会非常快。
顺便说一句，IBM 和英特尔都表示，EUV 技术将使摩尔定律得以延续。信不信，由你。
论文列表：
Design intent optimization at the beyond 7nm node: The intersection of DTCO and EUVL stochastic mitigation techniques
Investigation of alternate mask stacks in EUV lithography
Comprehensive analysis of line-edge and line-width roughness for EUV lithography
Fundamentals of EUV resist-inorganic hardmask interactions
Ultrathin EUV patterning stack using polymer brush as an adhesion promotion layer
Driving down defect density in composite EUV patterning film stacks
Single-expose patterning development for EUV lithography
论文地址请见 IBM 官网：https://www.ibm.com/blogs/research/2017/02/ibm-spie-seven-advancements-beyond-7nm-chips/
今日，康奈尔大学发布了他们最近一期计算机科学讨论会上的嘉宾谈话笔记。来自 UC Berkeley 的计算机视觉（CV）专家 Philip Isola，介绍了 CV 在无监督学习领域的最近技术进展。他谈话的重点是 Pointwise Mutual Information（PMI），即点互信息，一项无须人工标记，让计算机自动识别图像结构的技术。
地址：http://cornellsun.com/2017/02/27/computer-science-colloquium-do-machines-see-what-i-see/
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刘伊伦