雷锋网消息,据微博用户鼎盛风清称,荷兰政府将根据瓦森纳国际协议,禁止阿斯迈(ASML)公司向中国出口极紫外(EUV)光刻机。
不过,雷锋网了解到,该消息还未最终证实。
雷锋注:图为微博截图
据《路透社》报道,美国方面为“阻止荷兰向中国出售芯片制造技术”,暗中进行了大量工作。据悉,美国的单方面 “阻止运动” 开始于 2018 年,荷兰政府向 ASML 发放了出口许可证,允许其向中国公司中芯科技出口一台价值 1.5 亿美元的 EUV 光刻机。
据消息人士透露,在荷兰政府发放出口许可证之后的几个月中,美国的政府官员仔细研究了他们是否可以彻底阻止出售,并与荷兰政府相关人士进行了至少四轮谈判。
2019 年 7 月 18 日,美国总统国家安全事务代理助理 Charles Kupperman 给到访华盛顿的荷兰首相马克 · 吕特一份秘密情报,报告中大谈“中国获得光刻机的可能后果”。在马克 · 吕特访问过白宫不久之后,荷兰政府选择不续签 ASML 的出口许可。
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而对于此前已经购买的价值 1.5 亿美元的 EUV 光刻机,原计划应在 2019 年年初就交付到中国。不过,后来 ASML 方面因仓库遇火延后了 EUV 光刻机的交付时间,改为在 2020 年的年中交付。
在媒体首次报道延迟交货时,荷兰 ASML 公司表示,公司仍在等待新许可证申请的批准,并拒绝进一步给予评论。
另外,对于美国政府的施压的说法,荷兰外交部发言人在 1 月 15 日表示,在决定是否签发出口许可证时,荷兰政府要权衡经济和安全利益。
关于此事,中国方面也表明了态度。2020 年 1 月 17 日,据《金融时报》报道,中国驻荷兰大使徐宏在采访中表示,如果媒体报道属实,即如美国向荷兰施压,荷兰政府因此不再批准向中国出口 EUV 光刻机,那么这种做法就是典型的将商业问题政治化。按照相关法律及国际协议,美国没有理由要求荷方限制 ASML 对华出口。
另外,徐宏还表示,希望荷兰政府能综合考虑自身利益、荷兰企业利益,本着公平贸易及法治的精神,作出正确判断。如果荷兰政府在政策取向上追随美国,基于政治原因对中荷经贸往来施加不公平的限制,毫无疑问将会影响两国合作。因为所有的合作都应当是对等互惠的。
在主流微电子制造过程中,光刻是最复杂、昂贵和关键的工艺,占总成本的 1/3;目前的 28nm工艺则需要 20 道以上光刻步骤,耗费时间约占整个硅片工艺的 40-60%。
光刻工艺决定着整个 IC 工艺的特征、尺寸,代表着工艺技术发展水平。由于高技术要求,光刻机制造难度极大,全世界只有少数几家公司能够制造,主要有 ASML、Nikon 和 Canon 等。
而 EUV 光刻机作为现今最先进的芯片制造设备,是唯一能够生产 7nm 以下制程的设备,因此,其也被称为“突破摩尔定律的救星”。也就是说,必须使用 EUV 光刻机才能使半导体芯片进入 7nm,甚至 5nm 时代。
在 EUV 光刻机的生产上,ASML 公司是该领域的领军企业,同时也是全球唯一能生产 EUV 的企业。
据了解,ASML 的设备使用由激光产生,并通过巨型镜子聚焦的极紫外(EUV)光束,在硅片(被称为晶圆)上铺设非常狭窄的电路。这能让厂商制造更快、更强大的微处理器、内存芯片和其他先进元件;而这些元件不论是对消费类电子产,还是对军事应用来说都至关重要。
另外,值得一提的是,目前,国内光刻机厂商有上海微电子、中电科集团四十五研究所、合肥芯硕半导体等,但由于技术难度巨大,但短期内还是处于相对劣势的地位。